上海測博高通量組織研磨儀在研磨工藝上的技術(shù)特點講解：這里將其分為軟拋光、硬拋光、平整度、粗糙度、粗磨、細(xì)磨、中磨、精磨這八種分類，一般高通量組織研磨儀屬于精密研磨拋光設(shè)備。下面小編就這八種分類，來詳細(xì)的講解一下。

一、軟拋光：

可以利用磨盤上加裝一個特殊材料拋光墊或拋光布，拋光料在拋光墊或拋光布之間運動，使工件比硬拋光更有超鏡子一樣的高光潔度。

二、硬拋光：

利用合成盤、銅盤、錫盤、樹脂盤等非常高精密度的基面加入微米級金剛石磨料，使工件表面變得既高精密平面度，又有像鏡子一樣的高光潔度。

三、平整度：

工件的平整度取決于磨盤的平整度。隨著加工領(lǐng)域的不斷深化及精度和效率要求越來越高：從鑄鐵盤、合成盤、銅盤、純錫盤、樹脂盤發(fā)展到金剛石盤，并通過各種方法把盤的平面訂修到佳達2um。

四、粗糙度：

表面粗糙度取決于磨料顆粒的大小、形狀和磨盤的材料，以及工件材質(zhì)及硬度。

五、精磨：

利用較細(xì)顆粒度的磨料在磨盤中與工件面上磨削，進刀量較小、表面光潔度好，磨削痕均勻而細(xì)。

六、粗磨：

利用較粗顆粒度的磨料在磨盤與工件面上磨削，進刀量大、效率高；但磨削面較粗，適用于磨削余量較多之工作。

七、中磨：

利用中度顆粒的磨料在磨盤與工件面上磨削，進刀量快、效率高，表面粗糙度適中，適合磨削量一般之工件。

注:將高通量組織研磨儀被磨、拋材料放于平整的研磨盤上，研磨盤逆時鐘轉(zhuǎn)動，修正輪帶動工件自轉(zhuǎn)，重力加壓或其它方式對工件施壓，工件與研磨盤作相對運轉(zhuǎn)磨擦，來達到研磨拋光目的。